研磨抛光常见错误
摘要:研磨抛光常见错误－－光圈面形误差（一）低光圈产生原因①、砂挂光圈太细（凹面R小、凸面R大）。②、研磨皿与镜片接触太松，镜片中心研磨太多。③、研磨皿直径太小。④、摆动幅度太大或串棒偏摆（偏心）不对——太大。⑤、负LAP皿太强或修理时间太长。⑥、治具上压力施加太大。⑦、倒角太锋利。⑧、球心调节太低。克服方法①砂挂时，严格控制△h或用原器检查光圈，不可太细。②、修整研磨皿、使镜片与研磨皿吻合，要稍紧（力求整个面接触）③、更换研磨皿，选择合适的直径（研磨皿直径约为镜片直径的1.5～2倍）④、减小摆动幅度，调整偏摆位置（往皿之中心调整）⑤、控制修磨时间，摆幅和压力要平稳适宜。⑥、放轻压力。⑦、CG倒角调整。⑧、调高球芯。（二）高光圈产生原因①、砂挂光圈太粗（凸面R小）（凹面R大）②、研磨皿与镜片接触太紧，镜片边缘磨削多。③、研磨皿直径太大。④、摆动幅度太小，摆动偏心距太小（太靠近中心）。⑤、正LAP皿太强或用正皿修得太久。⑥、上冶具重心太高，加工时振动太大使镜片边缘磨削量大。⑦、冷却水大小或未进研磨皿中心。克服方法①、砂挂时严格控制△h或用原器检查光圈，不可太粗。②、修整研磨皿面形，使镜片和皿吻合要好。③、选择或设计加工合适的研磨皿直径。④、加大摆幅和调整偏心距位移量，使之增加镜片中心部位的研磨量。⑤、重新校正LAP皿强度，修整研磨皿时选择合适的修理时间。⑥、在不影响夹持和上治具寿命的情况下，适当降低上治具高度。⑦、加大冷却水调偏摆动。（三）中凹(凹心或局部低)产生原因①、砂挂光圈太低，尚未磨到中心。②、镜片和研磨皿接触太松，中心研磨太多。③、研磨皿（基体）R值不
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