实验室真空双靶直流磁控溅射镀膜仪

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摘要:双靶直流磁控镀膜仪CY-MSP300S-2DC实验室专用镀膜仪，磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能全面。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，实验室制备薄膜的理想设备。选配直流电源和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。双靶直流磁控溅射镀膜仪供电电压AC220V，50Hz整机功率6KW极限真空度5x10-4Pa尺寸φ150mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调数量2个，2”磁控溅射头冷却方式水冷，所需流速10L/min水冷机规格10L/min流速的循环水冷机载样台参数磁控溅射头参数腔体尺寸φ300mmX340mmH腔体材料不锈钢观察窗口φ100mm开启方式上顶开式，便于更换靶材真空腔体气体流量控制器1路200sccmAr；真空泵配有一套分子泵系统，抽速600L/S膜厚仪石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10Å直流电源，500W-1000W，适用于制备金属溅射电源膜操作方式一体机电脑操作整机尺寸1090mmX900mmX1250mm整机重量350kg

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