集成电路2期

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摘要:注册资本超2000亿元！集成电路大基金2期将投向何方？（附A股）前两天，国家集成电路大基金1期要减持科技股的消息，牵动了A股投资者的心。不过，这对市场仅仅是短期的影响。相关个股如汇顶科技，兆易创新，国科微股价也仅仅是回调了一天，隔天便迅速回到原位。其实也不奇怪，大基金1期早在5年前成立之时就已经做了15年的规划，其中2019-2024年处于回收期，投资盈利退出很正常。况且，国家集成电路大基金2期已经来了。2019年10月22号，大基金2期成立，注册资本高达2041.5亿元！而1期不到1000亿元。如果考虑到基金对社会投资资金的带动，它对经济的促进影响还是积极的。那么，规模如此庞大的集成电路2期大基金，它将投向何方？1.投向设备方面。比如刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域，加快开展光刻机、化学机械研磨设备等核心设备以及关键零部件的投资布局。估算设备方面的投资额可达900亿元。目前与国外先进设备工艺相比，我们还有差距，比如光刻技术。我们经常说的芯片用的是多少纳米工艺，比如50nm，14nm，7nm，5nm等等，其实一般就是指光刻技术带来的差异了。我国普遍目前还处在14nm的工艺，和国际上5nm的先进工艺还有差距。目前，世界上80%的光刻机市场被荷兰ASML公司占据。而在EUV光刻机领域，目前处于绝对垄断地位，市占率为100%，处于独家供货的状态。光刻机按照使用的光源不同，可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。DUV是DeepUltraViolet，即深紫外光；EUV是ExtremeUltraViolet，即极紫外光。DUV光刻机的极限工艺节点是28n

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